吉林省炬曜科技有限公司

我们的热销产品

• 平面刻划光栅 20l/mm 10000nm

  这是一款专为10μm及更长波长的远红外波段而设计的超低刻线密度平面衍射光栅（20线/毫米，10000nm）。作为专业制造商，我们融合了精密刻划技术、专用红外镀膜工艺及基底制造专长，打造出这款光栅；它在极少数制造商能够涉足的波段范围内，展现出卓越的衍射效率、极低的杂散光水平以及出色的稳定性。
• 平面刻划光栅 50l/mm 1500nm-10600nm

  这款刻线密度为 50线/毫米、工作波段涵盖 1500nm 至 10600nm
• 平面刻划光栅 75l/mm 2000nm

  75l/mm 2000nm平面刻划光栅是一款专为2微米及更长波段设计制造的超低密度平面衍射光栅。作为专业制造商，我们结合精密刻划技术、针对中红外波段优化的镀膜工艺以及精选基底材料，打造出这款在严苛红外应用环境下具备高衍射效率、极低杂散光及卓越稳定性的光栅产品。
• 平面刻划光栅 100l/mm 1600nm-16000nm

  100l/mm 1600nm-16000nm的平面刻划光栅，是一款专为应对极具挑战性的光谱区域（涵盖短波红外至远红外）而设计的高性能平面衍射光栅。作为专业制造商，我们结合精密刻划技术、红外优化镀膜工艺及精选基底材料，打造出这款光栅；即使在大多数光学元件难以发挥效能的波段，它仍能保持高衍射效率与低散射特性。
• 平面刻划光栅 150l/mm 550nm-10600nm

  作为专业制造商，我们结合精密刻划技术与红外优化镀膜工艺，生产出一种光栅；即使在许多传统光学元件难以胜任的波段，该光栅仍能保持高衍射效率与低散射特性。依托我们占地500平方米的研发设施及国家级人才团队，我们确保每一块光栅均符合当今最先进红外光学系统所要求的严苛标准。
• 平面刻划光栅 200l/mm 500nm-5000nm

  作为专业制造商，我们结合精密刻划技术与先进的镀膜工艺，生产出一种光栅，可作为多功能分析仪器的理想色散元件。
• Seya-Namioka型凹面全息光栅 1200l/mm 210nm

  这是一款专为紫外-可见光（UV-VIS）单色仪应用而优化的 Seya-Namioka 型平场凹面全息光栅，特别适用于对尺寸有严格要求的场合。作为凹面光栅制造商，我们专门针对那些需要在性能与占用空间之间取得平衡的仪器设计了这款产品。
• Seya-Namioka型凹面全息光栅 1200l/mm 200nm-800nm

  这是一款 Seya-Namioka 平场凹面全息光栅——专为需要波长扫描且追求结构简洁的单色仪应用而设计。作为凹面光栅制造商，我们以满足紫外-可见光（UV-VIS）应用所需的精密标准来制造这些产品。无论您是为新仪器采购 OEM 凹面光栅组件，还是为服役多年的单色仪寻找替换光栅，我们都能满足您的需求。